![]() 一种改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构
专利摘要:
本发明提供了一种改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构,包括基板和设置在基板上的BM层,在BM层上的第一OC层和第一导电层之间设附着增强层,附着增强层完全覆盖第一OC层,包括氧化铌层和二氧化硅层,所述附着增强层具有绝缘性。与现有技术相比,附着增强层完全覆盖第一OC层彻底规避第一OC层逸气对第一导电层附着力的影响,另一方面增加的附着增强层不影响原叠加膜层的光学性能,即第一OC层+第一导电层的反射率与第一OC层+附着增强层+第一导电层的反射率一致。最终产品附着力得到彻底改善,同时实现12h连续生产,实现良率与效率的双赢。 公开号:CN214335690U 申请号:CN202120399652.2U 申请日:2021-02-23 公开日:2021-10-01 发明作者:郑建军;余志辉;钟素文;夏大映;王胜;朱照生 申请人:WUHU TOKEN SCIENCES CO Ltd; IPC主号:G06F3-041
专利说明:
[n0001] 本实用新型属于触控屏技术领域,更具体地说,涉及一种改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构。 [n0002] 随着触摸屏行业的发展,触摸屏已经逐步从单点触摸发展到多点触摸屏,多点触摸屏最大的特点是可以多个手指同时实现对屏幕的操作,使得触摸屏更加方便和人性化。现有技术中,多点触摸屏的触控IC控制器主要是通过获得该点分别在X轴方向电极和Y方向电极的电流信息,以精确计算触摸点的位置。 [n0003] 金属网格一体化电容式触摸屏(简称OGM)因具有高导电性、透光率高、抗干扰能力好等优点,替代ITO成为触摸屏触控电极的新主流。 [n0004] 现有OGM产品因产品功能需要,BM后需增加OC制程,OC是一种有机材料,不耐高温,导电层经过镀膜生产时高温烘烤,OC会逸出杂气,影响膜层质量,导致第一导电层与OC之间的结合力不稳定,出现第一导电层膜层脱落异常。 [n0005] 针对以上问题,目前采用的对策是缩短连续生产的时间,由12h缩短至8h。当连续生产达到8h需停止生产1h,排空腔体内玻璃,抽去腔体内杂气,依此循环。但是,此方法影响实际生产时间,导致生产效率低下,浪费生产成本。一个月按30天,一天按24小时计算,生产时间为640h,总时间为720h,生产效率(生产时间*100/总时间)为88.9%。 [n0006] 本实用新型的目的是解决现有技术存在的问题,提供一种改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构,不仅产品附着力得到彻底改善,同时实现12h连续生产,实现良率与效率的双赢。 [n0007] 为了实现上述目的,本实用新型采取的技术方案如下: [n0008] 一种改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构,包括基板和设置在基板上的BM层,在BM层上的第一OC层和第一导电层之间设附着增强层。 [n0009] 所述附着增强层完全覆盖第一OC层; [n0010] 所述附着增强层具有绝缘性,为绝缘层; [n0011] 所述附着增强层包括氧化铌层和二氧化硅层; [n0012] 所述氧化铌层设在第一OC层上,所述二氧化硅层设在氧化铌层上。 [n0013] 所述氧化铌层厚度为所述二氧化硅层厚度为采用磁控溅射的方式形成。氧化铌层为高折层,二氧化硅层为低折层。氧化铌层与二氧化硅层厚度的选择是基于产品反射率的要求。一方面,氧化铌层越厚,产品反射率越高,故要求氧化铌层越薄越好,同时要考虑镀膜设备能力,20A为镀膜设备可以稳定溅射的最薄厚度;另一方面,二氧化硅层越厚,产品反射率低。故上述规格的膜厚对原结构(即附着增强层)产品反射率几乎无影响,两者反射率一致。 [n0014] 附着增强层完全覆盖第一OC层彻底规避第一OC层逸气对第一导电层附着力的影响,另一方面增加的附着增强层不影响原叠加膜层的光学性能,即第一OC层+第一导电层的反射率与第一OC层+附着增强层+第一导电层的反射率一致。最终产品附着力得到彻底改善,同时实现12h连续生产,实现良率与效率的双赢。 [n0015] 所述第一导电层上设第二OC层; [n0016] 所述第二OC层上设第二导电层; [n0017] 所述第二导电层上设保护层。 [n0018] 第一导电层经过镀膜生产时高温烘烤会使OC逸出的杂气,导致第一导电层致密性较差,再加上第一导电层(金手指)裸露于空气中,无OC保护,水分会进入第一导电层攻击其中的铝层,发生氧化反应导致金属脱落。本发明增加一层附着增强层,第一导电层金属镀膜时OC被增强层完全覆盖,不会逸出杂气,膜层致密性较好,裸露于空气中的水分进不去,第一导电层不会发生氧化导致脱落。 [n0019] 本实用新型与现有技术相比,具有以下优点:在BM层上的第一OC层和第一导电层之间设附着增强层,彻底规避OC逸气对第一导电层附着力的影响,在改善OGM产品金属附着力的同时,增加的绝缘层不影响原叠加膜层的光学性能,具有良好的光学性能,而且,无需停产抽气,提升了OGM产品产能,实现良率与效率的双赢。 [n0020] 下面对本说明书的附图所表达的内容及图中的标记作简要说明: [n0021] 图1为本实用新型改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构层结构示意图; [n0022] 图中标记为:1、基板,2、BM层,3、第一OC层,4、附着增强层,41、氧化铌层,42、二氧化硅,5、第一导电层,6、第二OC层,7、第二导电层,8、保护层。 [n0023] 下面对照附图,通过对实施例的描述,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明。 [n0024] 本实用新型提供的一种改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构,如图1中所示,包括基板1及设于基板1上的BM层2,设置于BM层2上的第一OC层3,设置于第一OC层3上的附着增强层4,附着增强层4上设第一导电层5;第一导电层上5上。 [n0025] 基板1为玻璃基板,厚度为0.7毫米,作为镀膜沉积用基板; [n0026] BM层2厚度为2.0±0.2微米,采用光阻材料制成,形成黑边框; [n0027] 第一OC层3,增加产品抗静电能力,采用感光材料通过黄光制程形成,厚度为1.6±0.2微米。 [n0028] 附着增强层4包括氧化铌41和设在氧化铌层41上的二氧化硅层42,所述氧化铌41厚度为二氧化硅层41厚度为附着增强层4采用磁控溅射整面镀膜方式形成,可以完全覆盖第一OC层3,彻底避免第一OC层3逸气对第一导电层5附着力影响;经过测试,氧化铌层41加二氧化硅层42组成的附着增强层4与第一OC层3、第一导电层5之间的结合力均最佳,不会出现膜层脱落异常,同时不会影响原结构产品光学,即,第一OC层3+第一导电层5的反射率与第一OC层3+附着增强层4+第一导电层5的反射率一致。 [n0029] 第一导电层5厚度为材质为钼铝钼,作用是形成线路,起导电作用。 [n0030] 第一导电层5上设第二OC层6,设于第二OC层6上的第二导电层7和设于第二导电层7上的保护层8。 [n0031] 第二OC层6,采用感光材料通过黄光制程形成,厚度1.6±0.2微米;第二OC层6的作用是起到绝缘作用,将第一导电层5与第二导电层7隔绝开,避免导通。 [n0032] 第二导电层7,厚度为2800±300埃,材质为钼铝钼,作用是形成线路,起导电作用; [n0033] 保护层8,厚度为2.0±0.2微米,采用感光材料通过黄光制程形成,起到保护作用,防止氧化与刮伤。 [n0034] 上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述,但是本实用新型并不受限于上述方式,只要采用本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进或直接应用于其它场合的,均落在本实用新型的保护范围内。
权利要求:
Claims (9) [0001] 1.一种改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构,包括基板和设置在基板上的BM层,其特征在于,在BM层上的第一OC层和第一导电层之间设附着增强层。 [0002] 2.根据权利要求1所述的改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构,其特征在于,所述附着增强层完全覆盖第一OC层。 [0003] 3.根据权利要求1所述的改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构,其特征在于,所述附着增强层包括氧化铌层和二氧化硅层。 [0004] 4.根据权利要求3所述的改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构,其特征在于,所述氧化铌层设在第一OC层上,所述二氧化硅层设在氧化铌层上。 [0005] 5.根据权利要求3所述的改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构,其特征在于,所述氧化铌层厚度为 [0006] 6.根据权利要求3所述的改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构,其特征在于,所述二氧化硅层厚度为 [0007] 7.根据权利要求1所述的改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构,其特征在于,所述第一导电层上设第二OC层。 [0008] 8.根据权利要求7所述的改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构,其特征在于,所述第二OC层上设第二导电层。 [0009] 9.根据权利要求8所述的改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构,其特征在于,所述第二导电层上设保护层。
类似技术:
公开号 | 公开日 | 专利标题 JP4540311B2|2010-09-08|透明導電膜及びその製造方法 EP1005096A2|2000-05-31|Solar cell module CN103703567A|2014-04-02|太阳能电池及其制造方法以及太阳能电池模块 KR101352779B1|2014-01-16|태양전지용 투명전극 및 그 제조방법 KR20190055716A|2019-05-23|이질 접합 태양 전지 및 그 제조 방법 CN1108539C|2003-05-14|有源矩阵液晶显示器 KR20070046719A|2007-05-03|도전체 구조, 도전체 구조의 제조 방법, 소자기판 및소자기판의 제조방법 CN106848103B|2020-07-17|一种oled基板及其制作方法、显示装置 US20210335832A1|2021-10-28|Thin film transistor | array substrate and display panel US20110155219A1|2011-06-30|Thin film solar cell and method for fabricating the same CN208384312U|2019-01-15|显示面板以及显示装置 JP2010517313A|2010-05-20|半透明結晶質シリコン薄膜太陽電池 CN101038939B|2010-08-25|光电动势元件、具有其的光电动势模块和制造方法 JPH11282383A|1999-10-15|電極基板およびその製造方法 CN110462830A|2019-11-15|显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置 JP2005108468A|2005-04-21|透明導電性シート、透明導電性シートの製造方法および上記透明導電性シートを用いた光増感太陽電池 JP4465740B2|2010-05-19|電極基板の製造方法 CN214335690U|2021-10-01|一种改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构 JP2011003895A|2011-01-06|薄膜太陽電池およびその製造方法 TWI298807B|2008-07-11| CN103035778A|2013-04-10|用来制造穿透式太阳能电池模块的方法 CN208256689U|2018-12-18|薄膜太阳能电池组件 JP2007191761A|2007-08-02|積層構造、それを用いた電気回路用電極及びその製造方法 TWI730701B|2021-06-11|一種薄膜太陽能電池的製作方法及薄膜太陽能電池 KR20100072956A|2010-07-01|태양전지 및 이의 제조방법
同族专利:
公开号 | 公开日
引用文献:
公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
法律状态:
2021-10-01| GR01| Patent grant| 2021-10-01| GR01| Patent grant|
优先权:
[返回顶部]
申请号 | 申请日 | 专利标题 CN202120399652.2U|CN214335690U|2021-02-23|2021-02-23|一种改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构|CN202120399652.2U| CN214335690U|2021-02-23|2021-02-23|一种改善金属网格一体化电容式触控屏附着力的结构| 相关专利
Sulfonates, polymers, resist compositions and patterning process
Washing machine
Washing machine
Device for fixture finishing and tension adjusting of membrane
Structure for Equipping Band in a Plane Cathode Ray Tube
Process for preparation of 7 alpha-carboxyl 9, 11-epoxy steroids and intermediates useful therein an
国家/地区
|